我国第一台光化学气相淀积设备光化学气相淀积设备是八十年代才出现的新技术,主要功能是在超低温条件下(低于零下二百摄氏度)淀积二氧化硅、氮化硅等介质膜,并对半导体芯片不产生损伤。在湖南省新化无线电厂投入生产的我国第一台光化学气相淀积设备,设计先进,结构新颖,操作安全,各项指标均达到了国际先进水平。该项设备是由西北科技大学和湖南新化无线电设备厂联合研制成功的,现已正式投入生产。(刘瑞球)「西游记宫」在正...
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我国第一台光化学气相淀积设备光化学气相淀积设备是八十年代才出现的新技术,主要功能是在超低温条件下(低于零下二百摄氏度)淀积二氧化硅、氮化硅等介质膜,并对半导体芯片不产生损伤。在湖南省新化无线电厂投入生产的我国第一台光化学气相淀积设备,设计先进,结构新颖,操作安全,各项指标均达到了国际先进水平。该项设备是由西北科技大学和湖南新化无线电设备厂联合研制成功的,现已正式投入生产。(刘瑞球)「西游记宫」在正...